Magma，28nm以降のプロセスで製造する大規模LSIの開発に利用可能なレイアウト設計環境を発売

　米国Magma Design Automation社は，28nm以降のプロセスで製造する大規模LSIの開発に利用可能なレイアウト設計環境「Talus 1.2」を発売した．例えば100万セル/日の速度で自動レイアウトを行える．また，フラットな階層で300万セル相当の回路を処理できるという．

　本レイアウト設計環境は，自動配線ツール「Talus MX Router」，静的タイミング解析ツール「Talus MX Timer」，寄生RC抽出ツール「Talus MX Extractor」などから構成される．台湾TSMC（Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.）や米国Global Foundries社，Common Platform Allianceといったファウンドリ企業/組織の認定を受けている．

　マルチモード（テスト・モードや低消費電力モードなど），マルチコーナ（電圧，温度，使用プロセスなど）の組み合わせに対応した複数のシナリオを一括して処理できる．これにより，実行時間を従来の1/10にできるという．また，チップ内の素子ばらつき（OCV：on-chip Variation）を考慮する際の余計なマージンを減らす機能（Advanced OCV）を備えている．静的タイミング解析ツールと寄生RC抽出ツールについては，2010年3月に同社が発表した解析ツール「Tekton」の機能をそのまま組み込んだ．このほか，クロストーク回避の機能や自動配線アルゴリズムを強化したという．

　マルチスレッディングやマルチコアによる並列分散処理を利用して，さらに大規模な回路を処理できるようにした自動レイアウト・ツール「Talus Vortex FX」も併せて発売した．例えば300万セル/日の速度で自動レイアウトを行える．また，フラットな階層で400万～500万セル相当の回路を処理できるという．

[図1] コア/スレッド数とTalus 1.2，Talus Vortex FXの性能向上