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Numonyx,41nmプロセスで製造するNAND型フラッシュ・メモリ製品群を発売
ニュース 2008年12月25日
スイスNumonyx社は,41nmプロセスで製造するNAND型フラッシュ・メモリ製品群を発売する.16Gビット~32GビットのNAND型フラッシュROMを内蔵したマルチチップ・モジュールや,2Gバイト~32GバイトのeMMC(embedded Multi Media Card),2Gバイト~8GバイトのmicroSDカードなどである.携帯電話やパーソナル・ナビゲーション・システム,家電機器などに搭載し,大容量の静止画や動画の保存を可能にする.
eMMCについてはJEDEC規格であるeMMC version 4.3に準拠する.通常MMCはスロットに挿入して使用するが,eMMCは基板上に実装して使用可能.八つの32GビットNAND型フラッシュROMに加えて,専用コントローラを搭載する.動作温度範囲は-25℃~+85℃.電圧電源は1.7V~1.95Vと2.7V~3.6Vに対応する.2009年1月からサンプル出荷を開始する予定.
併せて,同社はウェア口径が300mmの製造ラインへの移行が完了したことも発表した.300mmウェハ,48nmプロセスのラインを利用して製造した1GビットのSLC(Single Level Cell)方式NAND型フラッシュROMには,128KバイトのOTP(One-Time Programmable)ブロックを実装できる.OTPとは1回のみプログラムできる領域のことで,製品個別IDやシリアル番号などを格納する.セキュリティ関連のデータをプログラムする際に使用し,悪質な攻撃やデータの改変などから保護する.また,データ読み取り速度は26Mバイト/s.90nmプロセスで製造したフラッシュROMと比較した場合,書き込み処理は4倍,消去処理は8倍速いという.メモリの長寿命化を支援するため,アドレス空間528バイトごとに1ビットの標準ECC(Error Checking and Correcting)を備える.2008年12月からサンプル出荷を開始する予定.
[写真1] フラッシュ・ROM・デバイスの外観
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