先端半導体プロセス技術開発の国家プロジェクトMIRAIと民間プロジェクトSeleteが2006年度以降に統合へ

　電子情報技術産業協会（JEITA）の半導体幹部会は，次世代半導体技術を共同開発する同協会のプロジェクト「あすかプロジェクト」が終了する2006年度以降の方針を発表した．その中で，あすかプロジェクトの一環として同協会が設立した半導体先端テクノロジーズ（Selete）が進めている65nmプロセス向けHigh-k/Low-kモジュール開発の活動と，国家プロジェクトである「半導体MIRAIプロジェクト」が進めている45nmプロセス向け要素技術開発の活動を統合することを明らかにした．

　45nm以降のプロセス開発については，産官学の共同プロジェクト（仮称，つくばR&Dセンター）として進めていく．拠点としては，茨城県つくば市にあるSeleteの施設を利用する．これまで，関連する技術の多いSeleteの活動と半導体MIRAIプロジェクトの活動が別々に企画・運営されていた点について，効率の悪さが指摘されていた．

　このほか，同協会ではコンソーシアム運営の方針を見直していく．コンソーシアム活動を先行企業が主導する「先端コアプログラム」と，有志企業による「選択プログラム」に分ける．前者は，半導体の先端技術開発の加速を目的とする活動，後者は半導体業界の要求の多様化に対応する活動である．ここ数年，半導体業界のM&A（merger and acquisition）や半導体事業部の分離独立などが進み，さらに，特定分野の半導体製品に特化する企業も増えてきた．そのため，従来のような一律のコンソーシアム運営では，各企業の要求にこたえられなくなってきたという．

　このほか，Seleteが開発する半導体の先端プロセスと，同じく同協会の参加にある半導体理工学研究センター（STARC）が定義している推奨設計ルールや推奨ライブラリを組み合わせ，国内メーカ各社の半導体プロセスの標準化を推進していく．最終的には，国内メーカの半導体製造ラインの間に，SPICEパラメータ・レベルのプロセス互換性を持つファブ・ネットワークを構築する．STARCはシステムLSIの設計手法を開発・標準化している研究開発企業である．これまでは，論理設計やレイアウト設計を中心に設計手法を標準化していたが，2006年度以降はシステム・レベル設計やLSIテスト，マスク製造などの手法も含めて標準化していくという．

　こうした活動にかかる費用は，2006年～2010年で総額1,000億円規模になる見込み．