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NEC化合物デバイス,5GHz帯機器向けのSiGeトランジスタを発売
ニュース 2002年7月24日
NEC化合物デバイスは,周波数帯域が5GHzの機器で利用できるシリコン・ゲルマニウム(SiGe)トランジスタ「NESG2101M05」,「NESG2031M05」,「NESG2021M05」を発売した.無線LANや携帯電話などの無線通信機器における信号増幅に使われる.NESG2101M05は低ひずみが,MESG2031M05は低ノイズが,NESG2021M05は低ノイズ,高利得,低消費電流が特徴である.
本トランジスタは,同社のプロセス技術「UHS2」と選択的エピタキシャル・ベース成長の技術によって製造されている.UHS2とは,半導体にイオン注入やパターン描画を行うときのズレを自動的に補正する技術(セルフアライン)である.また,選択的エピタキシャル・ベース成長とは,トランジスタのベース層になる部分の半導体を結晶成長させるプロセス技術である.従来のSiGeプロセスは,周波数を高くすると耐圧が低下するという問題があった.一方,本トランジスタのコレクタ-エミッタ間の耐圧は最小5Vである.
2012(2.0mm×1.2mm)型の4ピン・パッケージに封止して出荷する.量産出荷は2002年9月に開始する予定.
[写真1] NESGシリーズの外観
[表1] NESGシリーズの仕様
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