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日立,10Mバイト/sで書き込めるAND型フラッシュ・メモリ・セルを開発

 日立製作所は,10Mバイト/sで書き込めるAND型フラッシュ・メモリ・セル「AG-AND」を開発した.AG-ANDとは,assist gate-ANDの略である.多値記録の技術を使用している.この技術により,通常のCD1枚分のデータをが約6秒でフラッシュ・メモリ・カードに書き込めるという.

 AG-ANDは,セル干渉を防ぐアシスト・ゲートとフロンティング・ゲートを交互に組み合わせるフィールド・アイソレーション方式を採用している.従来の浅溝アイソレーション方式に比べて,セルの面積を小さくできる.また,書き込み方式を従来のF-Nトンネル(fowler-nordheim tunneling)方式からホット・エレクトロン方式に変更した.0.13μmプロセスで製造した場合のセル面積は0.052μm2となる.これは,浅溝アイソレーション方式の場合と比べて,1/2の面積となる.並列に書き込むこともできる.

 今後,今回の技術を使って,ギガ・ビット・クラスのフラッシュ・メモリやフラッシュ・メモリ・カードを製品化する予定である.

 


[図1] AG-ANDフラッシュ・メモリ・セル

■連絡先
株式会社日立製作所
TEL: 03-5201-5201
URL: http://www.hitachi.co.jp/

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