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インターネプコン ワールド JAPAN 2006

三菱ガス化学のブース． 独自の「PTS袋」と「RP（revolutionary preservation）剤」と呼ばれる脱酸素剤を使った「RPシステム」を展示．写真は温度60℃，湿度95％の環境に1週間放置したプリント基板のようす． 写真左は三菱ガス化学の「RPシステム」で包装したもの．写真右はポリエチレン袋とシリカゲル剤の組み合わせ．左側の基板はレジストが酸化していない．

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