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光ナノテクフェア 2004

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512x384 23K ソニーマニュファクチュアリングシステムズの反射型レーザ・スケール(参考出品)のデモンストレーション.手前の検出ヘッダを左右に移動させて,その位置を検出している.デモンストレーションでは,電源投入時のスケールの位置が基準点(0点)となっていた.
512x384 21K ソニーマニュファクチュアリングシステムズの反射型レーザ・スケール(参考出品)のデモンストレーション.検出ヘッドからレーザを照射すると,スケール面で反射する.検出ヘッドとスケールの間を従来のものより短くすることで,風や温度変化の影響を抑えている.
512x384 23K ソニーマニュファクチュアリングシステムズの反射型レーザ・スケール(参考出品)の仕様.
512x384 25K ソニーマニュファクチュアリングシステムズの回転用反射型レーザ・スケール(参考出品).ハード・ディスク装置の製造時に用いられる.
512x384 30K ソニーマニュファクチュアリングシステムズの回転用反射型レーザ・スケール(参考出品)の仕様.
512x384 27K ソニーマニュファクチュアリングシステムズのインターポレータ(参考出品).反射型レーザ・スケールの信号ピッチ(反射光で得られた信号周期)は0.25μmだが,インターポレータを用いるとさらに細かく信号ピッチを分割することができる.同社の現状のインターポレータは最大2000分割だが,参考出品のインターポレータは4000分割が可能.
512x384 19K ソニーマニュファクチュアリングシステムズのインターポレータ(参考出品)の仕様.
384x512 37K 東京精密の3次元座標測定器「ザイザックスSVA」.
384x512 35K 東京精密の3次元座標測定器「ザイザックスSVA」.プローブで形状をなぞることで座標を測定する.
384x512 37K 東京精密の3次元座標測定器「ザイザックスSVA」の仕様.
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