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CEATEC JAPAN 2003

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512x384 24K 技術展示.

300mmウェハと65nmのプロセス技術.
(東芝)
512x384 16K 技術展示.

90nmのプロセス技術とLSIパッケージ.
(松下電器産業)
512x384 29K 技術展示.

ななめ配線技術「X Archtecture」.
(東芝)
512x384 25K 技術展示.

ウェハ・レベルCSPの製造工程.
(沖電気工業)
512x384 37K 技術展示.

半導体や受動部品を全層IVH基板に3次元実装する技術.
(松下電器産業)
384x512 35K 技術展示.

薄型積層パッケージの紹介.
(ルネサス テクノロジ)
384x512 44K 技術展示.

マルチチップ・パッケージ/システム・イン・パッケージ技術.
(コーア)
384x512 31K 技術展示.

0402サイズのチップ積層セラミック・コンデンサ.
(村田製作所)
512x384 24K MEMSデバイス.

3軸加速度センサ.
(オムロン)
512x384 34K MEMSデバイス.

3軸加速度センサのデモンストレーション.体にセンサを取り付け,ゴルフのスイングを解析する.
(日立金属)
384x512 31K MEMSデバイス.

MEMSマイクロホン「SP0103NC3」と「SP0102NC3」.
(ノウルズ・エレクトロニクス・ジャパン)
384x512 31K ディジタル・カメラ向け1チップ電源LSI「BD9734KN」.7種類の電圧を生成することができる.
(ローム)
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