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CEATEC JAPAN 2006

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512x340 22K 村田製作所のブース.
進化した「ムラタセイサク君」.
512x340 31K 村田製作所のブース.
進化した「ムラタセイサク君」を一目見ようと群がる人たち.
340x512 30K 京セラのブース.
ウェハ・プローブ・カード用セラミック基板.
512x340 26K 富士通のブース.
左は90nmプロセス技術で製造される「PRIMEQUEST」用ノース・ブリッジLSIのウェハ.右は65nmプロセス技術で製造されたウェハ.
512x340 30K タムラ製作所のブース.
512x340 20K 日立マクセルのブース.
512x340 27K エプソントヨコムのブース.
水晶素材をベースに精密微細加工を施し、小型・高性能を提供する水晶デバイス「QMEMS」の紹介.
340x512 28K 日立金属グループのブース.
512x340 29K 日立金属グループのブース.
512x340 13K 日立金属グループのブース.
340x512 35K ニチコンのブース.
512x340 24K ニチコンのブース.
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