電子情報技術産業協会(JEITA)は，100〜70nmルールのSOC(system on a chip)技術の確立を目指したプロジェクト「あすか」がスタートしたことを発表した．
「あすか」は，2001年4月〜2006年3月の5年間で，70nmルールのCMOSプロセス技術の確立を目指している．高速・大容量の次世代半導体技術につながる技術基盤の確立とCMOSプロセス技術の標準化を目指す．CMOSプロセス技術の研究開発は半導体先端テクノロジーズ(Selete)が，SOC設計技術の研究開発は半導体理工学研究センター(STARC)が行う．
2000年9月の計画発表時には，「国内メーカが協力して，国際市場での半導体の競争力向上を目指す」としていた．今回の発表では，SeleteとSTARCの株主でもある国内半導体メーカ11社(富士通，日立，松下，三菱，NEC，沖，ローム，三洋，シャープ，ソニー，東芝)のほか，韓国Samsung Electronicsが参加する．12社がプロジェクトの総費用840億円を負担する．国内メーカだけで対応するよりも投資負担が減り，技術開発効率が向上すると判断したという．
このほか，SeleteとSTARCを中心に，NEDO(New Energy and Industrial Technology Development Organization)の成果技術・情報の共有化を進めていく．大学，製造装置・材料メーカやEDAベンダ，海外コンソーシアムとの協力も行っていく．
記者の質問にコメントする森野氏(Selete)．
左：竹本氏(STARC)，右：和泉氏(JEITAあすか企画運営委員会委員長)
STARCのホームページ
http://www.starc.or.jp/
Seleteのホームページ
http://www.selete.co.jp/
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