組み込みﾆｭｰｽ2006.3.10

Mentor,LSIのﾚｲｱｳﾄ設計の段階で歩留まりに悪影響を与える可能性のあるﾏｽｸ･ﾊﾟﾀｰﾝを検出するｿﾌﾄｳｪｱを発売

　米国Mentor Graphics社は,LSIのﾚｲｱｳﾄ設計の段階で歩留まりに悪影響を与える可能性のあるﾏｽｸ･ﾊﾟﾀｰﾝを検出するｿﾌﾄｳｪｱ｢Calibre LFD(Litho-Friendly Design)｣を発売した．例えば,光近接効果のほか,ﾌﾟﾛｾｽばらつきに対する設計の耐性なども評価している．

　LSIの微細化に伴って,ﾏｽｸ上のﾊﾟﾀｰﾝの寸法がﾘｿｸﾞﾗﾌｨ装置の露光波長より短くなっている．そのため,0.18μmﾌﾟﾛｾｽ以降のﾏｽｸ設計では,光近接効果補正(OPC:optical proximity correction)や位相ｼﾌﾄ･ﾏｽｸ(PSM:phase shift mask)などの技術を利用して結像性を向上させている．しかし,90nmﾌﾟﾛｾｽ以降になり,これらの適用だけではﾏｽｸ･ﾊﾟﾀｰﾝを補正しきれない箇所がでてきているという．こうした箇所をｼﾐｭﾚｰｼｮﾝによって事前に解析し,ﾚｲｱｳﾄ設計の段階で人手で修正できるようにするのが,今回のｿﾌﾄｳｪｱのねらいである．

　本ｿﾌﾄｳｪｱは,Mentor社のﾚｲｱｳﾄ設計ﾂｰﾙ｢IC Station｣や米国Cadence Design Systems社のﾚｲｱｳﾄ設計ﾂｰﾙ｢Virtuso｣と統合して利用できる．また,米国Synopsys社のﾃﾞｰﾀﾍﾞｰｽ｢Milkyway｣や,ﾌﾘｰのLSI設計･製造向けﾃﾞｰﾀﾍﾞｰｽ｢OpenAccess｣と接続するためのｲﾝﾀｰﾌｪｰｽを用意する．OpenAccessは,EDAﾂｰﾙ間の連携を促進する標準化･普及推進活動を行っている米国Silicon Integration Initiative社(Si2)の傘下にあるOpenAccess Coalitionという企業ｸﾞﾙｰﾌﾟが開発･管理しているﾃﾞｰﾀ管理技術である．さらに,今後,米国Magma Design Automation社のﾚｲｱｳﾄ設計ﾂｰﾙ｢Blast Fusion｣とのｲﾝﾀｰﾌｪｰｽも用意する予定．

■価格
24.6万ﾄﾞﾙ(1年間のﾗｲｾﾝｽ料)

■連絡先
ﾒﾝﾀｰ･ｸﾞﾗﾌｨｯｸｽ･ｼﾞｬﾊﾟﾝ株式会社
TEL:03-5488-3035