国内半導体ﾒｰｶ11社,ｼｽﾃﾑLSI設計技術と90nmﾌﾟﾛｾｽ技術の研究･開発会社を設立
国内半導体ﾒｰｶ11社は,ｼｽﾃﾑLSI設計技術と90nmﾌﾟﾛｾｽ技術の研究･開発会社｢先端SoC基盤技術開発(ASPLA)｣を設立した．東芝,日立製作所,富士通,松下電器産業,三菱電機,NECがそれぞれ1億5千万円を,沖電気工業,三洋電機,ｼｬｰﾌﾟ,ｿﾆｰ,ﾛｰﾑがそれぞれ1千万円を出資する．
ASPLAは,ﾌﾟﾛｾｽ技術と半導体ﾒｰｶ各社が持つIPｺｱや回路ﾗｲﾌﾞﾗﾘを統一し,ｼｽﾃﾑLSI開発の共通基盤を確立することを目指している．こうした技術は独立行政法人である産業技術総合研究所(産総研)と共同で研究していく．また,STARC(半導体理工学研究ｾﾝﾀｰ)と提携し,STARCが開発した設計ﾙｰﾙや回路ﾗｲﾌﾞﾗﾘ,IPｺｱを利用して設計されたICの試作･検証を行う．
2003年6月に90nmﾌﾟﾛｾｽで製造するｳｪﾊの試作受託を開始する．2004年には90nmﾌﾟﾛｾｽの量産化技術を各半導体ﾒｰｶに移転する予定．
■連絡先
株式会社先端SoC基盤技術開発
TEL:03-3593-7362
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